¡ PATTERN HUB 2025 ya está aquí!
¡Llamando al talento joven creativo que quiere dejar huella en el diseño textil!
Si te apasiona la moda, te has graduado recientemente y sueñas con desarrollar tu estilo propio dentro de un entorno profesional, PATTERN HUB 2025 es tu oportunidad perfecta.
Este programa está diseñado para ayudarte a convertirte en diseñador/a de estampados, adquiriendo habilidades técnicas, experiencia práctica y una identidad creativa única. Es la escuela donde podrás aprender y crecer de la mano de grandes profesionales del sector.
A quién buscamos
* Te has graduado en los últimos 2 años en Diseño, ilustración, estampación textil entre otras afines.
* Eres una persona creativa, detallista, con curiosidad y ganas de aprender.
* Tienes pasión por el color, las formas, los tejidos y la innovación.
* Te motiva formar parte de un entorno colaborativo e inspirador.
Qué te ofrecemos
* Programa formativo remunerado de 2,5 años
* Mentoring y aprendizaje continuo de la mano de nuestros diseñadores senior.
* Participación activa en el desarrollo de colecciones reales de estampados.
* Acceso a workshops, herramientas creativas, formación técnica y digital.
* Creación de tu book profesional físico, con prints estampados en tejido.
* Entorno innovador e internacional
Etapas del programa
Engagement : Establece los fundamentos de tu identidad creativa.
Expedition : Explora y encuentra tu identidad visual.
Execution : Materializa tu perfil profesional.
Esta es tu oportunidad de formar parte de un equipo que apuesta por la innovación, el talento y el diseño con propósito.
¡Estamos impacientes por conocerte y ver lo que puedes aportar a PATTERN HUB 2025!
Las incorporaciones están previstas para el mes de septiembre, así que si sientes que esta experiencia es para ti...
Inscríbete y envíanos tu portafolio a patternhub@sedatex.com
Creemos en la diversidad : fomentamos un entorno laboral inclusivo y respetuoso. Esta oferta está abierta a todos los perfiles sin distinción de género, edad, origen, orientación o identidad.